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    更新于:2023/06/05
  • 适用于含自由界面大变形的多物理场的耦合方法及其应用
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    更新于:2022/09/23
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    更新于:2022/09/23
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    一种基于飞秒CARS的MOCVD中甲烷光谱成分分析系统及方法;方海生,聂圻春,刘胜,甘志银;ZL202011544011.8

    更新于:2022/03/24
  • 一种用于提升MOCVD喷淋均匀性的光学检测装置
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    一种用于提升MOCVD喷淋均匀性的光学检测装置;方海生,陈浩;ZL202110073652.8

    更新于:2022/03/24
  • 一种实时测量MOCVD反应腔内气相温度的飞秒CARS系统
    一种实时测量MOCVD反应腔内气相温度的飞秒CARS系统

    一种实时测量MOCVD反应腔内气相温度的飞秒CARS系统;方海生,聂圻春,刘胜,甘志银;ZL202011538459.9

    更新于:2022/03/24
  • 一种液体相对介电常数的测量方法及系统
    一种液体相对介电常数的测量方法及系统

    一种液体相对介电常数的测量方法及系统;方海生,陈浩,聂圻春,高仙仙;ZL202011300376.6

    更新于:2022/03/24
  • 一种生长氮化镓薄膜的降低位错密度的方法及系统
    一种生长氮化镓薄膜的降低位错密度的方法及系统

    一种生长氮化镓薄膜的降低位错密度的方法及系统;方海生,聂圻春;ZL201910763813.9

    更新于:2022/03/24
  • 一种剪切变稀非牛顿流体的气泡去除装置及方法
    一种剪切变稀非牛顿流体的气泡去除装置及方法

    一种剪切变稀非牛顿流体的气泡去除装置及方法;方海生,马千里;ZL201910557711.1

    更新于:2022/03/24
  • 一种芯片封装前的预处理方法
    一种芯片封装前的预处理方法

    一种芯片封装前的预处理方法;方海生,罗显刚,马千里;ZL201710345190.4

    更新于:2022/03/24
  • 一种控制芯片位错的方法
    一种控制芯片位错的方法

    方海生;罗显刚;马千里。本发明属于芯片封装领域,并公开了一种控制芯片位错的方法。该方法包括:(a)将待处理芯片的基圆划分为核心区、过渡区和边缘区,其中,核心区是以待处理芯片的基圆的圆心为中心,直径为d1的圆形区域,过渡区是核心区外的圆环区域,且介于核心区和边缘区之间;(b)将待处理芯片置于惰性保护气体中,并分别加热核心区和边缘区,然后将待处理芯片退火,其中,核心区的加热温度高于边缘区,使得核心区的空位和氧间隙原子扩散,以及位错滑移至边缘区,从而完成待处理芯片的处理。通过本发明,有效控制芯片基圆的位错分布,提高芯片基圆高质量区域面积占比,提高芯片成品率和使用性能,降低生产成本。

    更新于:2019/09/07
  • 一种微向下提拉晶体生长炉
    一种微向下提拉晶体生长炉

    方海生,蒋志敏,刘胜,王梦莹,张舟;ZL201510029789.8;本发明公开了一种微向下提拉晶体生长炉,包括自上而下设置的上部绝热层和底部绝热层(13),底部绝热层(13)内还设置有观察孔(4),观察孔(4)呈管状,其中心轴线与底部绝热层(13)顶表面的法线的夹角为45°~60°;内层绝热层、中间绝热层和底部绝热层(13)均由质量比为1:9的氧化锆和氧化铝压制煅烧而成。本发明设置的观察窗口能够及时观察晶体生长界面的晶体生长状况;并且,该观察窗口对晶体生长炉的温度场影响小,能够进一步提高晶体生长的成品率。​

    更新于:2018/12/15
  • 一种泡生法蓝宝石晶体生长炉
    一种泡生法蓝宝石晶体生长炉

    方海生,蒋志敏,王森,刘胜;ZL201410854713.4本实用新型公开了一种泡生法蓝宝石晶体生长炉,包括炉体、坩埚、炉盖和籽晶杆,所述炉体为底端封闭的筒体,所述炉体内设有圆筒状的侧隔热屏,炉体内底部设置有底部保温层和支架,所述底部保温层的顶部放置有底部反射屏,所述支架上放置所述坩埚,所述坩埚位于所述底部反射屏上方;所述炉盖底面设置有第一顶部隔热屏;围绕所述坩埚安装有侧加热器;所述炉体内还设置有底部加热器。本实用新型通过对加热器结构设计、隔热屏布置改进及其表面处理不仅能够灵活调控加热器功率为晶体生长提供良好的热场环境,提高晶体质量,而且还能显著地强化隔热系统保温效果,大大延长隔热屏使用寿命,进而降低蓝宝石晶锭总的生产成本。

    更新于:2018/12/15
  • 一种用于MOCVD设备的喷淋头
    一种用于MOCVD设备的喷淋头

    张之,方海生,蒋志敏,郑江,刘胜,甘志银;ZL201410844764.9;一种用于MOCVD设备的喷淋头,属于气体喷淋装置,解决现有喷淋头存在的原料气体不能均匀混合的问题,同时减少在喷淋头顶部出现沉积堵塞喷口的问题。本发明包括底座、下隔板、上隔板、顶盖和中心导管,顶盖和底盖之间被隔成上层气腔、中间气腔和底层腔体;多根上层气管平行穿过上隔板、下隔板和底盖,多根下层气管平行穿过下隔板和底盖,各上层气管和下层气管下端分别装设有长喷嘴和短喷嘴;长喷嘴和短喷嘴在底盖下表面交错均匀排列。本发明通过对长、短喷嘴的分配方式,可以提高反应腔内气体均匀性,提高反应速率,抑制反应物在顶部避免沉积造成喷口堵塞的情况,能够提高晶体生长质量,显著提高晶体成品率,降低生产成本。​

    更新于:2018/12/15
  • 一种提拉法晶体生长炉
    一种提拉法晶体生长炉

    方海生,田俊,王森,蒋志敏,张梦杰,赵超杰,刘胜;ZL201410829489.3;一种提拉法晶体生长炉,属于提拉法单晶生长装置,解决现有提拉法晶体生长炉内由于冷却气的非对称流动引起的不稳定性和熔体内包裹体杂质在晶体中聚集的问题。本发明包括炉体、基座、内隔热层、电磁感应加热器、炉盖、坩埚、坩埚盖和籽晶杆;坩埚内固定有坩埚整流筒,坩埚整流筒下端具有沿圆周均布的矩形孔;籽晶杆下部通过径向呈辐射状均匀分布的肋条与隔热环连接,所述隔热环为圆环形,其外径与内隔热层的内径相适应。本发明设计简单可靠,能够有效的调节冷却气和熔体的流场,进而改善温度场,提高生长过程的稳定性,有利于提高高质量单晶的生长效率,节约成本,适用于各种不同温度梯度生长条件的晶体制备。

    更新于:2018/12/15
  • 一种热场协调控制的提拉法晶体生长炉
    一种热场协调控制的提拉法晶体生长炉

    ​方海生,王森,蒋志敏,王梦莹;ZL201410794501.1;本发明公开了一种热场协调控制的提拉法晶体生长炉,包括绝热外壳及设置在绝热外壳内的生长室,生长室设置有坩埚,绝热外壳的外部设置有用于对坩埚进行加热的主电磁感应线圈,主电磁感应线圈的下方设置有副电磁感应线圈,主电磁感应线圈和副电磁感应线圈之间存在间距,有多根底部进气管和多根中部进气管平行伸入绝热外壳内,绝热外壳的顶部设置有气流出口,气流出口作为籽晶杆移动通道,绝热外壳内设置有用于削弱辐射传热的可伸缩遮热板和用于调整生长室局部温度的顶部辅助电阻加热器,所述可伸缩遮热板能调整伸入生长室的长度。本发明能有效的抑制晶体缺陷,提高晶体质量,也能显著的提高晶体成品率,降低生产成本。

    更新于:2018/12/15
  • 多晶硅铸锭炉的隔热块及包括该隔热块的多晶硅铸锭炉
    多晶硅铸锭炉的隔热块及包括该隔热块的多晶硅铸锭炉

    方海生,王森,蒋志敏;ZL201410631857.3;本发明公开了一种用于多晶硅铸锭炉的隔热块,设置在多晶硅铸锭炉的坩埚底部外周,用于坩埚加热或冷却多晶硅过程中的隔热保温,该隔热块为中空方形筒体结构,筒体筒壁为中空夹层结构,其中内壁用于包覆设置在坩埚底部的热交换块外周壁面,且该内壁与所述热交换块外周壁面具有间隙,所述外壁用于与设置在坩埚外围的竖直隔热板固定接触,所述坩埚中心线、热交换块中心线以及隔热块中心线重合,且所述隔热块顶部低于热交换块顶部。本发明还公开了具有该隔热块的铸锭炉。本发明不仅可以缩短硅锭铸造过程中化料时间,降低能耗,而且能够有效抑制形核初期坩埚壁附近晶粒优先生长,获得微凸和比较平直的凝固界面,进而提高硅锭质量。

    更新于:2018/12/15
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